一、概念：
常见的塑胶产品电镀加工工艺有二种：水电镀和真空电镀。真空电镀是一种物理学堆积状况。即在真空系统情况下引入氩气瓶，氩气碰撞靶材，靶材分离出来成分子结构被导电性的货物吸咐产生一层匀称光洁的表面层。电镀是在一定的金属材料水溶液中，根据载入直流电流使金属材料离子在负极表面井然有序堆积的全过程。
真空电镀和水电镀的差别
二、
真空电镀基本原理表明：
真空电镀的表层的镀膜常见方法分成真空泵蒸镀(PVD)与真空溅镀(SPUTTER)二种：
(1)真空泵蒸镀(PVD)
此乃最初期之真空电镀方式，是在相对高度真空泵情况下加温金属材料，使其熔化、挥发，制冷后在塑料表面产生金属材料塑料薄膜的方式。其基本原理乃运用灯丝来当电级，当灯丝被通以电流量升温至铝金属材料之溶点（700至800℃）时，这时置放到灯丝上之铝金属材料即被挥发为铝原子团，这时铝原子团再一层一层表面之被镀物，因此制造亦被称作PVD(PhysicalVaporDeposition)，物理学气相色谱堆积。
(2)真空泵溅镀(SPUTTER)
以几十电子伏特或更高一些机械能的浓差极化颗粒负电子原材料表面，使其溅射出进到气相色谱，可以用来离子注入和表层的镀膜。出射一个离子所溅射出的分子数量称之为溅射产额（Yield）产额越高溅射速率越快，以Cu，Au，Ag等最大，Ti，Mo，Ta，W等最少。一般在0.1-10分子/离子。离子可以直流电电弧放电（glowdischarge）造成，在两方面间加髙压造成充放电，正离子会负电子负电荷之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。正常的电弧放电（glowdischarge）的电流强度与负极化学物质与样子、汽体类型工作压力等相关。溅镀时应尽量保持其平稳。一切原材料皆可溅射表层的镀膜，即使高溶点原材料也非常容易溅镀，但对导电介质靶材须以微波射频（RF）或单脉冲（pulse）溅射；且因导电率较弱，溅镀输出功率及速率较低。金属材料溅镀输出功率可达10W/cm2，非金属材料<5W/cm2
三、水电镀制造介绍：
(1)钝化处理：以铬酸水溶液咬蚀塑料产品之表面，便捷下制造（敏化）之密着工作能力。
(2)敏化：以氯化钯水溶液为媒体，让钯离子粘附于塑料之咬蚀面，便捷下制造之化学镍密着。
(3)化学镍：因塑料表面即使已粘附钯离子，终究还是非导电性介面，故塑料表面经化学镍解决后，即成全方位导电性之插口，这时被镀物（塑料）面可开展离子互换之电解法电镀。
(4)电镀铜：一般电解法电镀习惯性以硝酸银溶液来开展离子互换，因二价之铜离子较开朗，故非常容易让活力镍吸咐，这时与镍离子中间所产生之凡得斯提力为较大，如再以交流电为媒体，更可加快其离子互换之速率。
(5)镀镍：此制造通常做为不锈钢(Cr)以前解决，因六价铬离子并不易粘附于铜离子，故在铜离子与铬离子中间以镍离子来当媒体。
(6)不锈钢：一般之电镀表面若想要高亮泽面，以铬金属材料为最好的选择，因铬金属材料具备耐磨损擦，抗腐蚀之特点，故在电解法电镀上常以铬金属材料为最终商品之外型，惟因六价铬离子乃归属于高耗能之管控金属材料，当六价铬离子经离子互换后所形成的三价铬离子对生态环保有明显的环境污染，特别是在对身体也是伤害甚巨，故在髙度进步的国家中已被禁止应用。
水电镀因加工工艺较简易，从机器设备到自然环境规定均沒有真空泵离子镀严苛，进而被广泛运用.但水电镀有一个缺点，只有镀ABS料和ABS+PC料（此料镀的作用也不是很理想化），而ABS料耐高温仅有80℃,这促使它的运用范畴被限定了。而真空电镀可达200℃上下，这对应用在持续高温的构件就可以开展电镀解决了。像风嘴、风嘴环应用PC料，这种组件均规定耐130℃的高溫。此外一般规定耐热的构件，做真空电镀都需要在最终喷一层UV油，那样促使商品表面不仅有光泽度、有耐热、与此同时又确保粘合力。
